奥鹏作业网国开（化工学院）25春《化工产品研发过程中的分析》形考任务9【标准答案】
作业9：形成性考核-核磁与质谱选择题
试卷总分:100 得分:100
1.判断分子离子峰的正确方法是
A.增加进样量，分子离子峰强度增加
B.谱图中强度最大的峰
C.降低电子轰击电压，分子离子峰强度增加
D.质荷比最大的峰
2.下列化合物中，分子离子峰的质荷比为奇数的是
A.C8H10N2O
B.C8H10N3
C.C9H10O2
D.C9H10O
3.质谱图中强度最大的峰，规定其相对强度为100%，称为
A.分子离子峰
B.基峰
C.亚稳离子峰
D.准分子离子峰
4.某有机化合物，用质谱法测得其M为150，同位素峰的丰度比(M+1)∶(M+2)=10.2∶0.8，查贝农表数据如下，则该有机化合物可能是
A.C8H12N3
B.C9H10O2
C.C9H12NO
D.C9H14N2
5.下列化合物中的质子，化学位移最小的是
A.CH4
B.CH3Br
C.CH3I
D.CH3F
6.分子式为C5H10O的化合物，其NMR谱上只出现两个单峰，最有可能的结构式为
A.(CH3)2 CHCOCH3
B.CH3CH2COCH2CH3
C.CH3CH2CH2COCH3
D.(CH3)3 C-CHO
7.化合物(CH3)2CHCH2CH(CH3)2，在1H NMR谱图上，有几组峰？从高场到低场各组峰的面积比为多少？
A.五组峰（6:1:2:1:6）
B.三组峰（2:6:2）
C.三组峰（6:1:1）
D.四组峰（6:6:2:2）
8.化合物CH3CH2CH3的1 H NMR中CH2的质子信号受CH3耦合裂分为
A.四重峰
B.五重峰
C.六重峰
D.七重峰
9.在核磁共振波谱分析中，当质子核外的电子云密度增加时
A.屏蔽效应增强，化学位移值大，峰在高场出现；
B.屏蔽效应减弱，化学位移值大，峰在高场出现；
C.屏蔽效应增强，化学位移值小，峰在高场出现；
D.屏蔽效应增强，化学位移值大，峰在低场出现。
10.在下列化合物中，字母标出的4种质子，它们的化学位移(δ)从大到小的顺序为 CH3CH2CH3 CH3CH(CH3)2 CH3CH2Cl CH3CH2Br (a) (b) (c) (d)
A.a>b>c>d；
B.d>c>b>a；
C.c>d>a>b；
D.b>a>d>C
11.在CH3CH2Cl 分子中何种质子化学位移值大?
A.CH3-中的
B.CH2-中的
C.所有的
D.离 Cl原子最近的
12.核磁共振波谱法中乙烯, 乙炔, 苯分子中质子化学位移值序是
A.苯 > 乙烯 > 乙炔
B.乙炔 > 乙烯 > 苯
C.乙烯 > 苯 > 乙炔
D.三者相等
13.用核磁共振波谱法测定有机物结构, 试样应是
A.单质
B.纯物质
C.混合物
D.任何试样
14.化合物C3H5Cl3, 1HNMR谱图上有两个单峰的结构式是
A.CH3-CH2-CCl3
B.CH3-CCl2-CH2Cl
C.CH2Cl-CH2-CHCl2
D.CH2Cl-CHCl-CH2Cl
15.某化合物的1HNMR谱图上, 出现两个单峰, 峰面积之比(从高场至低场)为3:1 是下列结构式中
A.CH3CHBr2
B.CH2Br-CH2Br
C.CHBr2-CH2Br
D.CH2Br-CBr(CH3)2
16.化合物(CH3)2CHCH2CH(CH3)2, 在1HNMR谱图上, 从高场至低场峰面积之比为
A.6:1:2:1:6
B.2:6:2
C..250706018518519
D.6:6:2:2
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17.化合物Cl-CH2-CH2-Cl1HNMR谱图上为
A.1个单峰
B.1个三重峰
C.2个二重峰
D.2个三重峰
18.共轭效应使质子的化学位移值δ
A.不改变
B.变大
C.变小
D.变大或变小
19.磁各向异性效应使质子的化学位移值δ
A.不改变
B.变大
C.变小
D.变大或变小
20.耦合常数因外磁场的变大而
A.变大
B.变小
C.略变大
D.不改变
21.核磁矩的产生是由于
A.核外电子绕核运动
B.原子核的自旋
C.外磁场的作用
D.核外电子云的屏蔽作用
22.测定某化合物的1HNMR谱,可以采用的溶剂是
A.苯
B.水
C.四氯化碳
D.三氯甲烷
23.分子离子峰弱的化合物是
A.共轭烯烃及硝基化合物
B.硝基化合物及芳香族
C.脂肪族及硝基化合物
D.芳香族及共轭烯烃
24.某化合物的质谱图上出现m/z31的强峰, 则该化合物不可能为
A.醚
B.醇
C.胺
D.醚或醇
25.在化合物3,3-二甲基己烷的质谱图中, 下列离子峰强度最弱者为
A.m/z29
B.m/z57
C.m/z71
D.m/z85
